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電子行業(yè)超純水解決方案
SOLUTIONS FOR ELECTRONIC?ULTRA-PURE?WATER INDUSTRY
SOLUTIONS FOR ELECTRONIC?
ULTRA-PURE?
WATER INDUSTRY
電子芯片、半導體的制造過程十分復雜，關(guān)鍵的步驟如沉積、光刻膠涂覆、刻蝕、離子注入和封裝都離不開超純水，超純水具有絕緣性以及不含雜質(zhì)，保障了產(chǎn)品的合格率。超純水系統(tǒng)是工業(yè)水處理系統(tǒng)中設(shè)計施工最為復雜，包括了眾多的子系統(tǒng)，功能單元及配套系統(tǒng)，可將其細分為預處理、除鹽水、純水、循環(huán)拋光及回收五大子系統(tǒng)。
中國國家電子超純水標準把電子級水質(zhì)分為四個標準，以電阻率表示分別為EW-Ⅰ18MΩ.cm(25℃),(95%時間)不低于17MΩ.cm(25℃)；EW-Ⅱ15MΩ.cm(25℃)，(95%時間)不低于12MΩ.cm(25℃)；EW-Ⅲ12MΩ.cm(25℃)；EW-Ⅳ0.5Ω.cm(25℃)。
中國國家電子超純水標準把電子級水質(zhì)分為四個標準，
單/多晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝、引線柜架、集成電路、?液晶顯示器、顯像管、LED芯片、導電玻璃、拋光片、光學元件、光通信、電池（蓄電池）、線路板、電容器、超凈化學品等
系統(tǒng)由四部分組成：預處理模塊、反滲透模塊、EDI模塊、精處理模塊。
預處理模塊包括砂濾、多介質(zhì)過濾、軟化、加氯、調(diào)節(jié)PH、活性碳過濾、脫氣等。過濾可除去1-20微米大小的顆粒，軟化和調(diào)節(jié)PH可防止反滲透膜結(jié)垢，加氯是殺菌。活性炭是除去有機物和自由氯，脫氣是消除水中的CO2等。
反滲透模塊使溶劑從濃溶液一側(cè)通過半透膜向稀溶液一側(cè)方向滲透，脫鹽可達98%，并能去除99%的細菌顆粒和溶解在水中的有機物。
EDI模塊是在外加直流電場的作用下利用陽離子和陰離子交換膜對離子選擇性過濾，脫鹽率可達95%以上。
精處理模塊是樹脂上可交換的陰離子被置換到水中（例如OH離子），并與水中的H離子結(jié)合成水。
半導體行業(yè)超純水工藝流程
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